研究內容:面向新型顯示產業技術變革的新趨勢,重點開展印刷與柔性顯示、激光顯示、μLED顯示、高度集成半導體信息顯示(HISID)、光場顯示等研究。開展量子點背光技術、印刷OLED和QLED發光材料與器件技術、印刷與柔性TFT技術、印刷與柔性顯示集成技術、新型TFT器件研制及其在感知和人工智能方面的應用、印刷顯示器薄膜封裝技術等相關研究;開發優質低成本激光晶體、超晶格非線性光學晶體、低成本高像質消散斑、綠激光模組、量子點背光模組等核心工程產業化技術,建設示范生產線;研究μLED顯示發光芯片制備、芯片與微米級芯片(MicroIC)巨量轉移技術、芯片與基板鍵合技術、快速檢測技術、全彩μLED顯示集成技術、驅動和應用、顯示色彩轉換和光效提取關鍵技術、顯示背光模組和大尺寸μLED顯示屏關鍵技術產業化開發、研究高性能光場顯示技術與器件,攻克顯示面板像素的高效利用和復用技術,突破大視角下透鏡陣列的優化設計和制作,以及像差校正技術,提升光場顯示3D圖像分辨率和清晰度等。

  發展目標:研制高性能印刷與柔性TFT,開發出新型印刷發光材料、器件、面板技術并產業化;實現激光顯示規模產業聚集;μLED背光模組及顯示屏產業化;實現高度集成半導體信息顯示器件(HISID);解決光場顯示3D視角與分辨率之間的制約關系。促進實驗室在此領域的成果產業轉化,成為國內外重要一支研究力量,奠定在國內外領先的研究地位。

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